高橋が，公益社団法人精密工学会・プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会・第145回研究会「半導体基板洗浄技術と関連計測技術の最前線」にて，「半導体製造におけるナノ欠陥の高分解能・高感度・光学的計測法」という題目で講演を行いました．
