ASPEN2017@Seoulにて，孔君，増井君，松本君が発表，高橋がKeynote講演
ASPEN2017（7th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology）が，2017年11月14日～17日の日程で，韓国，ソウル，COEXで開催されました．
当研究室からは，孔君（D2），増井君（M2），松本君（M2）が研究発表を，高橋がKeynote講演をしました．
孔 徳卿：Monitor Resin’s Curing Degree for In-process Measurement in Micro-stereolithography
増井周造：Thoretical Analysis of Multi-Beam Interference Lithography Combining Evanescent and Propagation Light
松本侑己：Double Imaging Micro-Stereolithography for One-Shot Curing of Surface Micro-Structure Unit
高橋 哲：New Developments for Next-generation Precision Engineering Opened with Localized Light Energy Control
バンケットでは，次回2年後に日本，松江で開催されるASPEN2019（Conference Chair: 高増潔先生）を紹介しました．
