ASPE2017@Chartlotte, USAにて，増井君が発表
アメリカのシャーロットで開催されたASPE2017（American Society for Precision Engineering, 32nd Annual Meeting, 29.OCT. - 3.Nov.2017）において、増井周造君（M2）が研究発表を行いました．
オーラル採択率20％弱程度の難関の中，増井君の発表は，昨年に引き続き二年連続オーラル講演として取り上げていただきました．
増井周造：Multi-Beam Interference Lithography Based on Evanescent Wave for Functional Nano-Complex Surface
