鈴木君（M2）が，東京大学本郷キャンパスで開催された18th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining (ISEM XVIII)（2016年4月18日-22日）に参加，発表しました．
発表題目は以下です．
Evanescent Light Exposing System under Nitrogen Purge for Nano-Stereolithography
